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            產品詳情
            • 產品名稱:氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD華測

            • 產品型號:HCTD-HCHD
            • 產品廠商:華測
            • 產品價格:0
            • 折扣價格:0
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            氣氛型可調高溫加熱裝置氣氛可調節近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。氣氛型可調高溫加熱裝置也可以根據用戶的需進行定制。
            詳情介紹:

            氣氛型可調高溫加熱裝置





            產品介紹

            中小型高溫爐是工業生產與科研中常用的設備之一。目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無法實現變溫環境模擬,且不同氣氛環境以共用。在研的工業級與科研級特種紅外高溫爐,具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調(一臺設備同時實現大氣/真空/惰性氣體等)的優點。目前美日等國已發展出部分相關的專用高溫爐,我國仍是空白。

                    氣氛可調節近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。也可以根據用戶的需進行定制。

            更多應用

            太陽能電池基板的熱處理

            在氣氛環境下的熱處理

            各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理

            模擬器漸變熱處理

            熱循環熱沖擊試驗研究

            半導體材料的燒結和工藝退火爐


            特點

            設定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

            多步驟及循環加熱利用氣體冷卻機構的高速氣體淬火

            可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設定和外部信號

            另外,可以在電腦上顯示加蒸中的溫度數據


            技術參數


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